本报讯(张泉) 国家知识产权局局长申长雨2日在杭州举行的第十届中国知识产权年会上表示,我国将继续坚定不移实施严格的知识产权保护制度,持续营造良好的创新环境和营商环境。 申长雨表示,我国将实施更加严格的商标侵权惩罚性赔偿制度,加大对商标恶意注册和囤积行为的打击力度;同时,加快推进专利法的修改,建立侵权惩罚性赔偿制度和药品专利保护期补偿制度,延长外观设计专利保护期,更好地保护专利权。 在审查业务层面,我国将持续提升知识产权审查质量和审查效率,提高专利、商标授权的及时性和权利的稳定性,更好地满足社会需求。 近年来,我国知识产权事业发展驶入快车道,知识产权创造质量、保护效果、运用效益和国际影响力不断提升:专利、商标年申请量稳居世界首位;知识产权保护社会满意度由2012年的63.69分提高到2018年的76.88分;在世界知识产权组织发布的《2019全球创新指数报告》中,中国排名第14位,位居中等收入经济体之首。 与此同时,我国将着眼国际,更大力度加强知识产权保护国际合作,加快构建多边、周边、小多边、双边“四边联动、协调推进”的知识产权国际合作新格局。
申长雨:商标侵权惩罚将趋严
作者:「待晓企服」
发表于:2019-09-05 08:51:46
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